ASML : fournit à Intel un système de lithographie EUV
Le 19 janvier 2022 à 11:44
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Dans le cadre d'une collaboration de longue date entre les deux partenaires, Intel annonce avoir émis son premier bon de commande à ASML pour la livraison du premier système TWINSCAN EXE:5200, un système de lithographie EUV (lithographie extrême ultraviolet) permettant de produire plus de 200 wafers (disques semi-conducteurs) par heure pour l'industrie.
Selon Martin van den Bord, président et directeur technique d'ASML, ce système offre 'des améliorations lithographiques continues', avec 'une complexité, un coût et un temps de cycle et une énergie réduits'.
' L'objectif d'Intel est de rester à la pointe de la technologie de lithographie des semi-conducteurs et nous avons développé notre expertise et nos capacités EUV au cours de l'année dernière', explique le Dr Ann Kelleher, vice-présidente exécutive et directrice générale du développement technologique chez Intel.
La prochaine étape est attendue en 2025 avec la technologie High NA et son ouverture numérique de 0,55 NA, assurent les deux partenaires.
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ASML Holding N.V. figure parmi les 1ers fabricants mondiaux de matériel de lithographie destinés à l'industrie des semi-conducteurs. Les équipements du groupe sont destinés à l'impression des circuits intégrés sur des plaques très fines de silicium. Le CA par activité se répartit comme suit :
- vente de matériel de lithographie (79,6%). Le groupe propose également des produits et des composants optiques de lithographie ;
- prestations de services (20,4%).
La répartition géographique du CA est la suivante : Pays-Bas (0,1%), Europe-Moyen Orient-Afrique (4,4%), Taïwan (29,3%), Corée du Sud (25,2%), Chine (26,3%), Japon (2,2%), Singapour (1%), Asie (0,1%) et Etats-Unis (11,4%).