Ion Electronic Materials Co. présente ses résultats pour l'exercice clos le 31 décembre 2023

Ion Electronic Materials Co Ltd fournit des gaz spéciaux et des machines. Les activités de la société comprennent la production et la vente de gaz spéciaux et de machines. Les gaz spéciaux comprennent les gaz dopants, les gaz de nettoyage et de gravure, les gaz pour couches minces CVD et les gaz pour lithographie au laser. Les gaz dopants sont utilisés comme gaz spéciaux pour le processus d'implantation ionique des semi-conducteurs et après l'implantation, notamment l'arsine, la phosphine, le trifluorure de bore (11B), le trifluorure de bore enrichi en 11B et le tétrafluorure de germanium. Les gaz de nettoyage et d'attaque sont le trifluorure d'azote, utilisé comme gaz de nettoyage dans les semi-conducteurs et les panneaux à cristaux liquides, ainsi que le gaz de mélange F2/N2, utilisé dans l'électronique, la technologie laser et les équipements médicaux. Les gaz CVD pour couches minces comprennent SiH4, Si2H6, DCS et TCS utilisés dans les semi-conducteurs. Le gaz de lithographie laser comprend l'ArF193nm, le KrF248nm, le gaz de recuit laser, le Ne et le Kr utilisés dans le processus de photorésistance. Des machines sont utilisées pour le remplissage de gaz spéciaux.