La mutation du marché en croissance rapide des semi-conducteurs vers des largeurs de ligne plus étroites continue d'attiser le besoin en nouvelles technologies innovantes de filtrage afin de réaliser des fluides plus propres et plus purs. Pall Corporation (NYSE : PLL), leader mondial des technologies microélectroniques, introduit neuf nouveaux produits qui potentialisent la fiabilité, la reproductibilité et la productivité des procédés et aident l'industrie à satisfaire ses besoins changeants. Les nouveaux produits qui visent les applications chimiques, gazeuses, photo lithographiques et de polissage mécanique chimique sont les derniers produits venant s'ajouter au portefeuille déjà important de la société visant à l'amélioration de l'économie des circuits intégrés et de la fabrication des affichages. Ils seront exposés à Semicon West à partir d'aujourd'hui.

Applications chimiques

Pall introduit deux nouvelles plateformes de technologie de membrane pour répondre à la demande croissante en traitement chimique humide de plaquettes uniques et par lots. Le filtre UltiKleen(TM) Excellar ER Filter est le premier filtre entièrement fluoropolymérisé d'une valeur nominale de 20 nanomètres. Il s'agit d'une conception de membrane PTFE nouvelle génération dont la cinématique superficielle a été améliorée pour une plus grande résistance au démouillage dans les produits chimiques aqueux et à viscosité élevée. Ce filtre apporte à l'industrie un nouveau niveau de rétention en permettant d'aller au-delà des barrières de fabrication actuelles pour permettre d'éliminer le niveau suivant de contaminants. Alors que le filtre offre une meilleure capacité de rétention et de démouillage, il n'en sacrifie pas pour autant le flot ou la durée de vie.

Pall lance également le filtre Ultipleat(R) SP DR Filter, un filtre à membrane hautement asymétrique d'une valeur nominale de 30 nanomètres, mis au point spécifiquement pour les applications des préparations de surface chimique humide. La conception asymétrique unique du filtre permet une double rétention et sa composition polymérique lui permet de fonctionner à plus hautes températures que les autres polymères. Le filtre offre aussi une résistance chimique supérieure, ainsi qu'une surface hydrophilique et des débits élevés.

« Les filtres UltiKleen(TM) Excellar ER et Ultipleat(R) SP DR établissent de nouvelles références en matière de performances sur le marché » déclare Steve Chisolm, président de Pall Microelectronics. « Les deux produits sont le résultat d'un développement en collaboration étroite entre l'équipe R&D de Pall et les plus grands fabricants de puces du secteur et leur processus a été prouvé. Les clients ont placé des commandes à l'avance anticipant leur lancement commercial. »

Selon l'Association de l'industrie des semi-conducteurs, les ventes de puces s'élèveront cette année à environ 250 milliards de dollars, une augmentation de 9,8 pour cent par rapport à 2005, vu la demande de dispositifs électroniques qui continue de croître.

Applications photolithographiques

Pall introduit aussi le filtre photolithographique le plus serré que la société ait jamais lancé. Le nouveau filtre PE-Kleen Filter, un filtre d'une valeur nominale de 10 nanomètres, est désormais disponible pour une large gamme de chimies lithographiques, y compris les produits photorésistants de 193 nm et 248 nm. Il s'agit là du tout dernier produit de la série de filtres à membrane en polyéthylène haute densité de la société qui présente une capacité exceptionnelle de réduction de défauts tout en maintenant des pressions différentielles extrêmement basses en cours de dosage ou de traitement chimique.

Les filtres PE-Kleen de Pall ont été adoptés dans de nombreuses applications lithographiques critiques et permettent aux clients d'adopter des niveaux encore plus fins de filtration sans sacrifier la chute de pression. Dans la filtration photorésistante au point d'utilisation, les lithographes ont besoin de filtres qui offrent des capacités de réduction de défauts exceptionnelles, tout en maintenant une pression extrêmement basse en cours de dosage ou de traitement chimique.

« Cela fait plusieurs années que les technologies Pall ont repoussé à plusieurs reprises les limites de ce qui est possible en filtration lithographique » déclare Steve Chisolm. « Notre nouveau filtre de 10 nm, PE-Kleen, est la progression naturelle de nos efforts soutenus de réduction de la densité et de la taille des défauts dans les processus lithographiques et confirme que les limites physiques de la filtration lithographiques n'ont pas encore été atteintes. »

En ce qui concerne les applications photolithographiques, la société introduit également un système d'eau pour immersion pour la fourniture d'eau ultra propre allant jusqu'à 2 l/min, pour l'immersion des outils lithographiques.

Technologies d'épuration/de filtration de gaz

Pall expose trois nouveaux produits de la société qui agrandissent la famille des technologies d'épuration et de filtration du gaz :

-- PG Series Gaskleen(R) Ensembles et collecteurs épurateurs pour gaz inertes, inflammables (silane, H(2)), corrosifs et hydrides capables de soutenir des débits allant jusqu'à 1000 slpm. Cette nouvelle série de produits fournit l'élimination des sous parties par milliards de contaminants moléculaires y compris humidité, oxygène, dioxyde de carbone, monoxyde de carbone, carbonyles de fer et de nickel.

-- Gaskleen(R) Ensembles de filtres Sandwich TM (Joint « C-seal » de 1 1/8 po ou 2,85 cm) avec conception unique qui permet une intégration facile de l'ensemble filtre entre le substrat et un autre composant. Le filtre sandwich peut réduire la longueur globale d'un bâton de gaz ou permettre d'ajouter un autre composant à un bâton de gaz existant.

-- AccuSep(R) Ensemble de filtre Nickel SIL, conçu pour être utilisé dans les applications de gaz en vrac ultra pur. Cet ensemble utilise le matériau du filtre en nickel Pall AccuSep qui permet l'élimination de particules supérieures à 3 nm avec une efficacité de 9-log.

Applications de polissage mécanique chimique

En outre, Pall développe sa gamme de produits sur mesure, de filtration en profondeur pour le polissage mécanique chimique avec l'introduction de deux nouveaux produits. Le Profile(R) Sirius Filter, un filtre de 0,2 microns de valeur nominale qui est optimalisé pour la rétention des particules d'oxyde de cérium rigides surdimensionnées et difficiles à enlever. Sa configuration plus épaisse à plus grande profondeur est plus performante jusqu'aux hautes pressions différentielles. La capsule StarKleen(TM) QD Capsule offre des accessoires de déconnexion rapide pour en faciliter l'installation près du point de distribution.

« À l'heure où nous célébrons notre 60e anniversaire, nous continuons à aider nos clients à réaliser leurs objectifs de fabrication en livrant des solutions d'ingénierie évoluées de matériaux et de systèmes. Notre objectif spécifique de fournir aux clients des solutions de filtration, de séparation et de purification pour les rendre encore plus compétitifs est ce nous distingue des autres » ajoute Steve Chisolm.

Pall Microelectronics est le leader mondial des technologies de filtration, de séparation et d'épuration pour l'industrie microélectronique. La société fournit les marchés des semi-conducteurs, du stockage de données, des fibres optiques, de l'affichage et des matériaux avancés, avec une gamme complète de solutions de contrôle de la contamination pour les processus chimiques, gazeux, aqueux, de polissage mécanique chimique et de photolithographie.

À propos de Pall Corporation

Pall Corporation est le leader mondial dans le secteur en croissance rapide de la filtration, de la séparation et de l'épuration. L'activité de Pall s'organise autour de deux vastes marchés: les sciences de la vie et l'industrie. L'entreprise propose des produits de pointe pour répondre à la demande des clients dans les domaines de la biotechnologie, la pharmacie, la transfusion médicale, les semi-conducteurs, l'épuration de l'eau, l'aérospatiale et les grands marchés industriels. Le chiffre d'affaires total de Pall Corporation pour l'exercice 2005 était de 1,9 milliards de dollars. La société, dont le siège est à East Hills, New York, a des bureaux dans le monde entier. Visitez Pall à l'adresse www.pall.com.

Notes du rédacteur :

-- Ces produits sont exposés à Semicon West, Stand n° 5656, Les responsables de Pall sont aussi disponibles pour des interviews

-- Des photos et autres informations supplémentaires concernant les nouveaux produits et les capacités de Pall sur le marché des semi-conducteurs sont disponibles sur http://www.pall.com/corporate_40410.asp