Nova Ltd. a annoncé la deuxième génération du système Nova Metrion® pour la spectrométrie de masse d'ions secondaires en ligne (SIMS). Le nouveau Metrion® incorpore des améliorations clés, y compris une sensibilité accrue et une meilleure compensation de charge, et est maintenant disponible pour expédition aux clients. Le système Metrion® introduit une capacité unique de profilage de la composition en ligne pour les mesures clés de contrôle de processus, y compris la contamination, les résidus et la diffusion, qui ne peuvent pas être obtenues par d'autres techniques de mesure.

Cette dernière version permet également d'obtenir des résultats plus rapidement, d'améliorer le contrôle de l'uniformité du dopant et d'obtenir une meilleure résolution en profondeur. Le nouveau Metrion® a fait l'objet de nombreuses démonstrations auprès des clients en 2023. Sur la base des bons de commande et des accords d'évaluation existants, la plateforme sera installée chez plusieurs clients de premier plan pour subir un processus de qualification dans les lignes de production des dispositifs de mémoire et de logique les plus avancés.

La société prévoit de reconnaître les revenus initiaux de la deuxième génération de Nova Metrion® dans la seconde moitié de 2024. Nova Metrion® permet des mesures avancées de profils de matériaux en introduisant la spectrométrie de masse à ions secondaires dans les lignes de production de semi-conducteurs. Il est conçu dès le départ pour la fabrication en grand volume, intégrant de manière transparente l'analyse au niveau de la plaquette dans un flux de travail automatisé et éliminant le besoin d'envoyer des coupons de plaquettes à un laboratoire externe.

Le système déploie une nouvelle technologie de détection qui permet l'acquisition simultanée de plusieurs espèces de matériaux, ce qui se traduit par une plus grande densité de données, une meilleure résolution en profondeur et une plus grande sensibilité aux petites variations de concentration.