Soitec et Kokusai, un leader japonais dans la conception et la production de matériel de fabrication dédié aux solutions de traitement thermique et de dépôt de couches minces pour semiconducteurs, étendent leur collaboration en Recherche et Développement au sein du Substrate Innovation Center à Grenoble (France).

Créé par le CEA-Leti et Soitec, le Substrate Innovation Centre est un pôle de R&D ouvert aux différents acteurs de l'industrie qui a pour mission de favoriser la collaboration précoce et le partage des connaissances au sein de la chaîne de valeur des semiconducteurs, depuis les substrats jusqu'aux systèmes.

Ce pôle a ainsi pour vocation de stimuler la R&D en matière de substrats innovants, qu'il s'agisse du SOI ou de nouvelles générations.