SOITEC : étend sa collaboration avec le japonais Kokusai
Le 09 juillet 2019 à 08:36
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Soitec et Kokusai, un leader japonais dans la conception et la production de matériel de fabrication dédié aux solutions de traitement thermique et de dépôt de couches minces pour semiconducteurs, étendent leur collaboration en Recherche et Développement au sein du Substrate Innovation Center à Grenoble (France).
Créé par le CEA-Leti et Soitec, le Substrate Innovation Centre est un pôle de R&D ouvert aux différents acteurs de l'industrie qui a pour mission de favoriser la collaboration précoce et le partage des connaissances au sein de la chaîne de valeur des semiconducteurs, depuis les substrats jusqu'aux systèmes.
Ce pôle a ainsi pour vocation de stimuler la R&D en matière de substrats innovants, qu'il s'agisse du SOI ou de nouvelles générations.
Soitec est un leader mondial de la production de matériaux semi-conducteurs innovants. L'entreprise s'appuie sur ses technologies uniques pour servir les marchés de l'électronique et de l'énergie. Avec plus de 4 000 brevets, elle mène une stratégie d'innovations disruptives pour permettre à ses clients de disposer de produits qui combinent performance, efficacité énergétique et compétitivité.
Soitec compte des sites industriels, des centres de R&D et des bureaux commerciaux en Europe, aux Etats-Unis et en Asie.