Lasertec Corporation a annoncé le lancement du système d'inspection de masques actiniques EUV de la série ACTIS A300 pour High-NA. Le système d'inspection de masques actiniques EUV ACTIS A150 fourni par Lasertec a facilité l'adoption de la lithographie EUV pour la fabrication en grand volume. Il est réputé pour ses excellentes performances d'inspection dans l'industrie.

Le nouveau système ACTIS A300 est un modèle de nouvelle génération qui répond aux exigences des processus de fabrication utilisant la lithographie EUV à haute résolution pour permettre une miniaturisation plus poussée des géométries des dispositifs. La série A300 utilise une optique nouvellement conçue et une source lumineuse à haute luminosité URASHIMA. Elle améliore considérablement les performances de détection des défauts par rapport à la série A150.

Les optiques anamorphiques utilisées dans la lithographie à haute résolution ont adopté différents grossissements de projection dans les directions X et Y. L'inspection des masques EUV pour la lithographie haute-NA nécessite donc des niveaux de résolution différents dans les deux directions. La série A300 peut également être utilisée pour inspecter les masques EUV pour la lithographie NA actuelle ainsi que les masques EUV pour la lithographie High-NA.

Lasertec se consacre à répondre aux besoins des fabricants de semi-conducteurs de pointe, à développer des solutions uniques et à faciliter l'amélioration de la qualité et de la productivité, contribuant ainsi à l'avancement de l'industrie. Caractéristiques : Inspection des masques EUV pour la lithographie haute-NA. Inspection des masques EUV pour la lithographie NA actuelle.

Inspection à haute productivité avec une optique très efficace et une source lumineuse à haute luminosité URASHIMA. Applications : Inspection d'assurance qualité pendant les processus de fabrication des masques EUV. Inspection des masques EUV à l'entrée et inspection périodique de l'assurance qualité dans les usines de fabrication de plaquettes.